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協(xié)鑫半導(dǎo)體級多晶硅上海首秀 填補(bǔ)國內(nèi)技術(shù)和產(chǎn)業(yè)空白受到業(yè)內(nèi)關(guān)注

來源:  作者:  時間:2017-03-21

 


協(xié)鑫半導(dǎo)體級多晶硅上海首秀
填補(bǔ)國內(nèi)技術(shù)和產(chǎn)業(yè)空白受到業(yè)內(nèi)關(guān)注
 
 


徐州日報訊(記者 王正喜 通訊員 吳爍 劉晨)3月14日,由國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)中國委員會主辦的SEMICON China 2017 國際半導(dǎo)體展在上海新國際博覽中心拉開帷幕。保利協(xié)鑫旗下江蘇鑫華半導(dǎo)體材料公司和特種材料公司,攜不同規(guī)格的半導(dǎo)體用電子級高純多晶硅塊(棒)、大晶圓、碳化硅涂層石墨件、碳化硅涂層復(fù)合材料等系列產(chǎn)品首次亮相。作為可以填補(bǔ)國內(nèi)產(chǎn)業(yè)空白的劃時代產(chǎn)品,協(xié)鑫半導(dǎo)體級多晶硅在SEMICON上的首秀引起了業(yè)內(nèi)廣泛關(guān)注。

從光伏到半導(dǎo)體 協(xié)鑫填補(bǔ)國內(nèi)產(chǎn)業(yè)空白

一直以來,作為光伏材料龍頭企業(yè),保利協(xié)鑫占據(jù)了全球太陽能級硅料和硅片三分之一的市場份額,持續(xù)引領(lǐng)光伏產(chǎn)業(yè)科技降本之路。

在太陽能級光伏材料做到全球第一的基礎(chǔ)上,作為“供給側(cè)改革”樣本企業(yè)的協(xié)鑫集團(tuán),不盲目擴(kuò)充重復(fù)產(chǎn)能,而是著眼于有步驟的延伸產(chǎn)業(yè)鏈,去瓶頸,補(bǔ)短板,堅(jiān)持專業(yè)化道路發(fā)展,引領(lǐng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新變革。

作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要原料,國內(nèi)半導(dǎo)體級多晶硅一直依賴進(jìn)口。在這種產(chǎn)業(yè)背景下,國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金和協(xié)鑫旗下江蘇中能硅業(yè),在徐州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)共同投資成立江蘇鑫華半導(dǎo)體材料公司,致力于研發(fā)適用于300mm集成電路晶圓使用的電子級多晶硅成套量產(chǎn)工藝,實(shí)現(xiàn)高純多晶硅的國產(chǎn)化,打破國外高純度硅材料的壟斷,并填補(bǔ)國內(nèi)的技術(shù)和產(chǎn)業(yè)空白。

公司總經(jīng)理田新介紹道,鑫華半導(dǎo)體基于江蘇中能硅業(yè)自主研發(fā)的GCL法多晶硅制備技術(shù),以及先進(jìn)的成套電子級高純多晶硅生產(chǎn)工藝,已經(jīng)具備生產(chǎn)集成電路用高純硅料的能力。而且,在以往的檢測技術(shù)基礎(chǔ)上,公司進(jìn)一步改變檢測方法,提高硅料以及中間原料的檢測精度,提升整體控制水平。公司不僅為客戶提供多種規(guī)格的電子級高純多晶硅塊(棒),在電子特氣的研發(fā)方面也取得了很大進(jìn)展,后期陸續(xù)會有電子級二氯二氫硅、電子級三氯氫硅等供應(yīng)市場。

項(xiàng)目即將投產(chǎn) 打造協(xié)同發(fā)展的半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈

協(xié)鑫集團(tuán)董事長朱共山表示,協(xié)鑫經(jīng)過十年技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)推動,在完成中國光伏多晶硅材料自主供應(yīng),改變中國光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展“兩頭在外”的被動局面之后,再一次進(jìn)入半導(dǎo)體材料這一空白區(qū),通過鑫華半導(dǎo)體材料在原料上突破,配套大晶圓項(xiàng)目對接光伏制造業(yè)轉(zhuǎn)型升級,優(yōu)化國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu),完善延伸半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈,打造從原料制造、芯片設(shè)計(jì)、芯片制造和封裝測試多業(yè)并舉、協(xié)調(diào)發(fā)展的全產(chǎn)業(yè)鏈。目前,集成電路用高純硅料項(xiàng)目生產(chǎn)線已經(jīng)完成建設(shè)安裝調(diào)試,預(yù)計(jì)下個月投產(chǎn),將改變中國半導(dǎo)體用電子級多晶硅材料依賴歐美日進(jìn)口的歷史。

同時亮相展會的協(xié)鑫特材公司可根據(jù)客戶需求,為不同形狀、結(jié)構(gòu)和大小的高純石墨件純化除雜,并采用高溫化學(xué)氣相沉積法沉積指定厚度的碳化硅涂層。與以往工藝相比,高溫化學(xué)氣相沉積法生產(chǎn)的碳化硅晶體結(jié)構(gòu)致密、晶格排列整齊、無雜質(zhì),與襯底材料結(jié)合更加緊密。

占有“天時、地利、人和”的中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),正在承接全球芯片產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移和技術(shù)升級。江蘇鑫華半導(dǎo)體材料走在行業(yè)前端,已經(jīng)擁有完整的電子級多晶硅工藝技術(shù)和設(shè)備體系,同時具備完整的工業(yè)化生產(chǎn)線,必將在這個現(xiàn)代工業(yè)歷史轉(zhuǎn)折中扮演更加重要的角色。

 

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